СПВ-60 Установка вакуумной плазменной очистки

Описание
Запрос

СПВ-60 Установка вакуумной плазменной очистки

Контур:

Пылесос Плазменный Очиститель(Плазменный очиститель),газ разделяется на плазменное состояние через источник питания возбуждения, и плазменное воздействие на поверхность продукта для очистки загрязняющих веществ на поверхности продукта, чтобы улучшить активность поверхности и повысить адгезию. Плазменная очистка - это новый, защита окружающей среды, эффективная и стабильная обработка поверхности.

СПВ-60 Установка вакуумной плазменной очистки

пособенность продукта:

1.Гибкое приспособление для размещения продукта, может адаптироваться к нестандартным продуктам

2.Горизонтальная конструкция электрода может соответствовать требованиям обработки мягких продуктов..

3.Продукты с низким потреблением энергии и газа.

4.Удобный способ поднимать и опускать доску

5.Интеграция вакуумной системы, маленький след

6.Разумное пространство для плазменной реакции, чтобы лечение было более равномерным

7.Интегрированная конструкция системы управления делает работу более удобной

СПВ-60 Установка вакуумной плазменной очистки

япромышленное применение:

1.Индустрия мобильных телефонов: ТП, средний кадр, активация очистки поверхности задней крышки

2.Промышленность печатных плат/ФПК: сверление отверстий и очистка поверхности, Шероховатость и очистка поверхности покрытия

3.Полупроводниковая промышленность: полупроводниковая упаковка, модуль камеры, светодиодная упаковка, BGA-упаковка, 4.Предварительная обработка проволоки

5.Керамика: упаковка, предварительная обработка клея

6.Травление для придания шероховатости поверхности: Шероховатость поверхности PI, Травление ППС, полупроводниковый кремниевый чип удаление PN перехода, ЭТО пленочное травление

7.Пластиковые материалы: Активация поверхности тефлона, Активация поверхности ABS, активация очистки пластиковых материалов и других материалов

8.Очистите поверхность перед нанесением ITO

СПВ-60 Установка вакуумной плазменной очистки

Ттехнические характеристики

Система питания		Радиочастотный источник питания	Среднечастотный источник питания
	Мощность	0~ 600 Вт	0~1000 Вт
	Частота	13.56МГц	40кГц
Вакуумная система	Двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос)	40м3/ч
	Вакуумная линия	Все трубы из нержавеющей стали, и высокопрочные вакуумные сильфоны
	Материал	Алюминиевый сплав (настраиваемая камера из нержавеющей стали)
	Толщина	25мм
	Герметичность	Сварочное уплотнение военного класса
	Внутренний размер полости	375×375×430 мм (Ш×В×Г)
	Эффективный размер электродной пластины	345× 344 мм (Ш × Г)
	Доступное пространство	22.5мм
	Схема электродной пластины	Горизонтальное расположение, подвижное извлечение
	Рабочий лоток	Стандартный набор, материал опционально (алюминий, проволочная сетка)
	Рабочая среда	6 слои
Газовая система	Диапазон расхода	0~300SCCM
	Газовый контур технологического газа	Стандартный с двумя каналами, контактный настольный спектрофотометр может обеспечить точное
Система контроля	Система управления	ПЛК
	Способ доставки	7 и рассчитывается плотность расплава. Оба метода проверяются, когда шток поршня перемещается в определенное положение.
Другой параметр	Граничный размер	900×1600×900 мм (ширина×высота×глубина)
	Вес	150КГ
	Цвет внешнего вида устройства	серебристо-серый

Требования заводской спецификации

Требования заводской спецификации
Технические характеристики переменного тока	Источник питания：AC380V，50/60Гц，5 линии，50А
Заводской выхлоп	Поток：2.0 м³/мин
Требования к газу для заводских работ	Поток：1~10 л/мин Давление：3~7 кг/см² Диаметр трубы：6×4 мм Материал: ПУ труба Чистота: выше 99.99%
Заводские требования к сжатому воздуху	Поток：1~10 л/мин Давление：3~7 кг/см² Диаметр трубы：8×5 мм Материал: ПУ труба точка росы: ниже -40℃ Частица > 0,3 мкм：10шт/фут³

Cсписок конфигураций

список конфигурации
Нет	название	Описание		Время восстановления температуры образца материала	Ширина теста (мм)
1	Хозяин	Граничный размер：900×1600×900 мм (Ш×В×Г)		ПК	1
2	Вакуумная камера	Вакуумная камера из алюминиевого сплава Внутренний размер 375×375×430 мм (Ш×В×Г)		ПК	1
3	Источник питания возбуждения	Радиочастотный источник питания	Среднечастотный источник питания	Время восстановления температуры образца материала	1
3	Источник питания возбуждения	Частота：13.56МГц； Мощность ：0~ 600 Вт Автоматический подбор вакуумных конденсаторов	Частота：40кГц； 0~1000 Вт;	Время восстановления температуры образца материала	1
4	ПЛК	СИМЕНС，С7-200		ПК	1
5	Сенсорный экран	вуаль, 7 дюймовый экран, MT6071iE		ПК	1
6	Расходомер	Британский бренд Wawick		ПК	2
7	Вакуумный насос	Эстакадный двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) : 40м3/ч		ПК	1
8	Вакуумметр	ИНФИКОН		ПК	1
9	Руководство	Инструкция по эксплуатации пылесоса плазмоочистки СПВ-60		ПК	1

Дополнительный стол

Дополнительный стол
Источник питания возбуждения	Радиочастотный источник питания	Среднечастотный источник питания
	Пользовательская мощность: частота：13.56МГц； Мощность：0~1000 Вт； Изготовленная на заказ автоматическая машина для согласования вакуумных конденсаторов	Частота：40кГц，власть：2000W
	источник питания ЦЕРЕС: частота 13,56 МГц； Мощность：0~600 Вт или 0~1000 Вт Дополнительно ； Американский автоматический подборщик вакуумных конденсаторов CERES
Вакуумный насос	Германия Leibao двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос)：40м3/ч
	Эстакадный двухступенчатый пластинчато-роторный насос (масляный насос) ：40м3/ч